產品描述
產品概述:
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高真空PECVD系統主要特點:
1.通過射頻電源把石英真空室內的氣體變為離子態。
2.PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積所需的溫度更低。
3.可以通過射頻電源的頻率來控制所沉積薄膜的應力大小。
4.PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積速率高、均勻性好、一致性和穩定性高。
5.廣泛應用于:各種薄膜的生長,如:SiOx, SiNx, SiOxNy 和無定型硅(a-Si:H) 等。

鄭州諾泰科技有限公司是一家有經驗從事熱處理產品的研發、生產與銷售的企業。產品涵蓋馬弗爐、管式爐、 真空爐、氣氛爐、CVD系統、箱式爐、高溫爐等。產品遠銷到三十多個國家和地區。 (http://www.zzprotech.com)